탄탈륨 타겟

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제품 상세 정보

탄탈륨 버거 생산기술

  • A) 탄탈륨 분말은 정적 압력 성형을 통해 탄탈륨 빌렛으로 가공됩니다.

  • B) 탄탈륨 빌렛을 소결한 후 압연합니다. 탄탈륨 타겟은 열처리 과정을 통해 형성됩니다. 이 타겟은 분말 야금법으로 제조되며, 고순도, 미세한 결정립 크기 및 균일한 재결정 구조라는 장점을 가지고 있습니다. 압력 가공 및 열처리 과정을 거쳐 고급 스퍼터링 장비에 사용되는 탄탈륨 타겟의 요구 사항을 충족하는 분말이 제조됩니다.

제품명 : 탄탈륨 버거, 탄탈륨 스퍼터링 타겟
자료: 탄탈륨

  • 형태 1: 일체형 회전식 스퍼터링 타겟
    치수: 외경(mm) 50-300, 내경(mm) 30-280, 길이(mm) 100-4000

  • 형태 3: 원형 타겟
    크기: 직경 25mm ~ 400mm x 두께 3mm ~ 28mm
    순도: 99.9%, 99.95%, 99.99% 또는 99.995%

  • 형태 2: 직사각형 타겟
    치수: 두께 1mm ~ 12.7mm x 너비 최대 600mm x 길이 최대 2000mm

탄탈륨 스퍼터링 등급, 오른쪽 및 기타 응용 분야
제품 특성 및 응용 분야
Ta3N5 고순도, 전자 산업 광섬유의 스퍼터링 증착 코팅에 사용
Ta4N 고순도, 반도체 칩의 스퍼터링 증착 코팅에 사용
Ta4N5 고순도, 전자 산업 집적 회로의 스퍼터링 증착 코팅에 사용
탄탈륨 스퍼터링 타겟 사양 및 공차
제품 두께/mm 공차/mm 직경/mm 공차/mm 평탄도/mm·mm-1 표면 거칠기(Ra)/μm
Ta3N5 6.35 + 0.254 / - 0 152.4 + 0.254 / -0.0 0.254 0.8
6.35 + 0.254 / - 0.254 304.8 + 0.254 / - 0.254 0.381 0.8
11.47 + 0.51 / - 0.0 298.45 + 0.51 / - 0.0 0.381 0.8
12.7 + 1.27 / - 0.0 654.05 + 1.27 / - 0.0 0.508 0.8
Ta4N 7.62 + 0.762 / - 0.0 322.58 + 1.02 / - 0.0 0.381 0.8
10.16 + 0.076 / - 0.076 781.05 + 0.076 / - 0.076 0.762 0.8
Ta4N5 7.88 + 0.762 / - 0.0 494.03 + 1.02 / - 0.0 0.381 0.8
저희는 고객이 요청하는 공차에 맞춰 제품을 생산할 수 있습니다.

탄탈륨 타겟 응용 분야

탄탈륨 타겟 소재는 주로 광섬유, 반도체 웨이퍼 및 집적 회로의 스퍼터링 증착 코팅에 사용됩니다. 또한 음극 스퍼터링 코팅, 고진공 흡착 활성 물질 등으로도 사용될 수 있습니다. 탄탈륨 타겟은 박막 기술에 있어 중요한 소재입니다. 이 타겟은 제트 터빈 디스크의 블레이드 및 날개와 같은 고온 합금에도 사용될 수 있습니다. 당사는 ASTM B708 ​​규격을 충족하는 R05200, R05400, R05255, R05252, R05240 타겟을 생산하며, 고객 도면에 따라 맞춤 제작도 가능합니다.
탄탈륨 타겟 응용 분야

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